[发明专利]一种超衍射定向传输材料结构制备后的测试分析方法有效

专利信息
申请号: 201210325524.9 申请日: 2012-09-05
公开(公告)号: CN102879360A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 罗先刚;王长涛;赵泽宇;高平;胡承刚;黄成;杨欢;蒲明薄;陶兴;姚纳 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01N21/63 分类号: G01N21/63;G01N1/28
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明;贾玉忠
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种超衍射定向传输材料结构制备后的测试分析方法,在透明基底上通过纳米加工方法得到纳米狭缝或孔结构掩模;在已平坦化的纳米狭缝或孔结构掩模上沉积金属介质交替多层膜结构材料;通过刻蚀或研磨的方法实现表层薄膜材料的粗糙化,完成结构制备;然后通过光源照明狭缝或小孔,激发表面等离子体倏逝波光场,并交替耦合到多层金属介质薄膜材料中,表面等离子体光场在金属介质膜层材料最外层形成特定分布,并被粗糙化表面散射到远场,通过物镜和CCD观测记录;最后计算得出超衍射材料的定向传输角度θ。本发明将高频倏逝波能量转化到远场进行探测和分析,可满足超衍射材料光学特性在远场范围的量化分析及表征需求。
搜索关键词: 一种 衍射 定向 传输 材料 结构 制备 测试 分析 方法
【主权项】:
1.一种超衍射定向传输材料结构制备后的测试分析方法,其特征在于:该方法的步骤如下:步骤(1)、在透明基底上通过纳米加工方法得到纳米狭缝或孔结构掩模;步骤(2)、通过平坦化工艺实现纳米狭缝或孔结构掩模的平坦化;步骤(3)、在已平坦化的纳米狭缝或孔结构掩模上沉积金属介质交替多层膜结构材料;步骤(4)、通过刻蚀或研磨的方法实现表层薄膜材料的粗糙化,完成结构制备;步骤(5)、通过光源照明狭缝或小孔,激发表面等离子体倏逝波光场,并交替耦合到多层金属介质薄膜材料中,表面等离子体光场在金属介质膜层材料最外层形成特定分布,并被粗糙化表面散射到远场,通过物镜和CCD观测记录;步骤(6)、最后根据公式:计算得出超衍射材料的定向传输角度θ,公式中d为峰值间距,h为金属介质交替多层膜结构材料总厚度。
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