[发明专利]一种用于均衡气体通道内气流的均衡装置有效
| 申请号： | 201210299576.3 | 申请日： | 2012-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN102829282A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 郭雪松 | 申请（专利权）人： | 北京雪迪龙科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F16L55/00 | 分类号： | F16L55/00;F16L23/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏晓波 |
| 地址： | 102206 北京市昌*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于均衡气体通道内气流的均衡装置，能够均衡气流在通道内的分布，使得气体充满整个气流通道。本发明包括固定支架和多个挡片，多个所述挡片沿所述固定支架的长度方向依次固定设置，所述固定支架能够套装在气体的通道内；所述挡片具有供气流通过的气流孔，以及阻挡气流以形成涡流的实体部。当有气体经过所述均衡装置时，所述挡片的实体部就会对气体进行阻挡，一部分气体会在挡片的阻挡下回流，回流的气体与后续进入的气体形成一个气流的锋面，构成涡流气体。也就是说，在固定支架所处的通道内充满了涡流气体。当安装有多个所述挡片的固定支架放置在气体的通道内时，通入的气体就能够充满并均匀地分布在该通道内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 均衡 气体 通道 气流 装置 | ||
【主权项】：
一种用于均衡气体通道内气流的均衡装置，其特征在于，所述均衡装置包括固定支架和多个挡片，多个所述挡片沿所述固定支架的长度方向依次固定设置，所述固定支架能够套装在气体的通道内；所述挡片具有供气流通过的气流孔，以及阻挡气流以形成涡流的实体部。
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