[发明专利]用于光刻设备的双汞灯拼接曝光系统有效
| 申请号： | 201210240343.6 | 申请日： | 2012-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN103543609A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 陈璐玲;张祥翔 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的双汞灯拼接曝光系统，包括：第一光源与第二光源，用于同时或分别提供照明光束；分别与该第一、第二光源相对应的第一、第二匀光组件；耦合透镜组，用于提高该曝光系统的照明均匀性；照明匀光组件，用于将该耦合透镜组的出射光匀光后照射至一照射面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 双汞灯 拼接 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的双汞灯拼接曝光系统，其特征在于，包括：第一光源与第二光源，用于同时或分别提供照明光束；分别与所述第一、第二光源相对应的第一、第二匀光组件；耦合透镜组，用于提高所述曝光系统的照明均匀性；照明匀光组件，用于将所述耦合透镜组的出射光匀光后照射至一照射面。
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