[发明专利]CRASER装置、成像系统和方法有效
| 申请号： | 201210220510.0 | 申请日： | 2012-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102969650A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | S.M.李 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H01S4/00 | 分类号： | H01S4/00;G01N23/04;A61B6/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 姜甜;刘春元 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明名称为“CRASER装置、成像系统和方法”。一种craser装置，利用craser装置的成像系统和一种成像的方法。该craser装置包括具有发射x射线和/或伽马射线光子的激发的增益介质原子的增益介质、邻接增益介质的透射介质、和反射镜，该反射镜包含一个或多个较低折射率层且邻接透射介质。该透射介质具有比增益介质以及反射镜中的至少一个材料高的折射率。通过全内反射将x射线和/或伽马射线光子限域到透射介质，以及通过消散波多次与激发的增益介质原子相互作用，从而产生放大的受激发射，这促成高强度不相干或相干x射线束和/或伽马射线束的形成。 | ||
| 搜索关键词： | craser 装置 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种craser装置(100)，包括：增益介质(120)，其具有发射x射线或伽马射线光子的激发的增益介质原子(124)；位于所述增益介质附近的透射介质(130)，所述透射介质具有比所述增益介质高的折射率；以及反射镜(140)，其包括一个或多个较低折射率层(140a‑140n)并邻接所述透射介质；其中通过全内反射将所述x射线或伽马射线光子限域到所述透射介质，以及其中所述x射线或伽马射线光子通过消散波与所述激发的增益介质原子相互作用，从而产生放大的受激发射，其中所述放大的受激发射形成高强度不相干或相干x射线束或伽马射线束(170)。
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