[发明专利]用于成像系统的局部线圈有效
| 申请号： | 201210202891.X | 申请日： | 2012-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN102830377B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | S.比伯 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | G01R33/341 | 分类号： | G01R33/341;G01R33/3875;A61B5/055 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 谢强 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种局部线圈（106），用于成像系统（101），特别是MRT（101），其特征在于，所述局部线圈（106）是MRT头部线圈（106），所述MRT头部线圈（106）被构造（A，L1，L2）用于，能够将患者的头部（K）安置（PP）在所述局部线圈（106）（A）中，并且所述局部线圈（106）具有至少一个匀场线圈（L1，L2）。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 系统 局部 线圈 | ||
【主权项】：
一种局部线圈(106)，用于成像系统(101)，其特征在于，所述局部线圈(106)是MRT头部线圈(106)，所述MRT头部线圈(106)被构造(A，L1，L2)用于，能够将患者的头部(K)安置(PP)在所述局部线圈(106)(A)中，并且所述局部线圈(106)具有至少一个匀场线圈(L1，L2)，其中匀场线圈(L1，L2)的导体(L1)布置在患者(101)的颈部成形的区域(P2)中。
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