[发明专利]一种磁控溅射阴极移动靶无效

专利信息
申请号: 201210195444.6 申请日: 2012-06-14
公开(公告)号: CN103484826A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 王振东 申请(专利权)人: 沈阳新瑞真空设备有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 任玉龙
地址: 110000 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种磁控溅射阴极移动靶,包括密闭的真空容器,溅射靶材,加热器,挡板,阴极支撑座,阴极水冷背板,阴极水冷真空密封座,磁体,阴极体移动真空密封系统,工件;被镀工件从加热器和挡板之间经过,在密闭的真空容器中安装有移动阴极体,移动阴极体包括阴极体移动真空密封系统,在密闭的真空容器外实现阴极体的精确移动;磁体通过胶水黏在阴极水冷真空密封座上;阴极水冷背板与阴极支撑座组成阴极体的移动部分,溅射靶材通过机械固定方式固定阴极水冷背板上。本发明优点:磁场与工件间的相对速度永远等于工件移动的速度,不存在镀膜均匀性的问题。提高溅射靶材的溅射面积,从而提高靶材利用率,大幅降低生产产品的成本,节约资源,提高竞争力。
搜索关键词: 一种 磁控溅射 阴极 移动靶
【主权项】:
一种磁控溅射阴极移动靶,其特征在于:所述的磁控溅射阴极移动靶包括,密闭的真空容器(1),溅射靶材(2),加热器(3),挡板(4),阴极支撑座(5),阴极水冷背板(6),阴极水冷真空密封座(7),磁体(8),阴极体移动真空密封系统(9),工件(10);其中:在密闭的真空容器(1)中安装加热器(3)和挡板(4),被镀工件(10)从加热器(3)和挡板(4)之间经过,在密闭的真空容器(1)中安装有移动阴极体,移动阴极体包括阴极体移动真空密封系统(9),通过导轨和步进电机的控制,光电开关的限位,在密闭的真空容器(1)外实现阴极体的精确移动;磁体(8)通过胶水黏在阴极水冷真空密封座(7)上,阴极水冷真空密封座(7)通过螺栓连接固定在密闭的真空容器(1)上;阴极水冷背板(6)与阴极支撑座(5)组成阴极体的移动部分,溅射靶材(2)通过机械固定方式固定阴极水冷背板(6)上。
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