[发明专利]基于聚偏氟乙烯和石墨烯的复合介质薄膜材料及制备方法无效

专利信息
申请号: 201210179758.7 申请日: 2012-06-04
公开(公告)号: CN102729562A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 徐建华;王偲宇;陈燕;杨文耀;杨亚杰;龙菁 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: B32B27/30 分类号: B32B27/30;B32B27/20;C08L27/16;C08K3/04
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 基于聚偏氟乙烯和石墨烯的复合介质薄膜材料及其制备方法,属于电子功能材料技术领域。所述复合介质薄膜由聚偏氟乙烯和石墨烯复合而成;其中石墨烯的质量百分比含量为复合介质薄膜质量的0.5%到3%。制备时,首先配制聚偏氟乙烯粉末的有机溶液(体系A);然后往体系A中加入石墨烯粉末,得到体系B;再采用超声雾化工艺,将体系B喷涂于衬底表面;最后将喷涂于衬底表面的体系B烘干,得到基于聚偏氟乙烯和石墨烯的复合介质薄膜材料。本发明在聚偏氟乙烯薄膜中掺入接近但不超过逾渗阈值的石墨烯,得到高出纯聚偏氟乙烯薄膜材料介电常数100%以上的复合介质薄膜材料,且保持了原有的柔韧性和易加工性;其制备方法简单、易控,成本低廉。
搜索关键词: 基于 聚偏氟 乙烯 石墨 复合 介质 薄膜 材料 制备 方法
【主权项】:
基于聚偏氟乙烯和石墨烯的复合介质薄膜材料,包括衬底位于衬底表面的复合介质薄膜,所述复合介质薄膜由聚偏氟乙烯和石墨烯复合而成;其中石墨烯的质量百分比含量为复合介质薄膜质量的0.5%到3%。
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