[发明专利]涂敷处理装置、涂敷显影处理系统和涂敷处理方法

摘要

本发明提供涂敷处理装置、涂敷显影处理系统和涂敷处理方法。该涂敷处理装置在利用旋涂法涂敷涂敷液而形成膜时，能够控制基板面内的任意位置的膜厚，并且能够减少基板面内的膜厚偏差。该涂敷处理装置(23)通过向旋转的基板的表面供给涂敷液并使供给来的涂敷液向基板的外周侧扩散，在基板的表面涂敷涂敷液，其包括：基板保持部(31)，其用于保持基板；旋转部(32)，其用于使被基板保持部保持的基板旋转；供给部(43)，其用于向被基板保持部保持的基板的表面供给涂敷液；气流控制板(63)，其设置在被基板保持部(31)保持的基板的上方的规定位置，用于使利用旋转部进行旋转的基板的上方的气流在任意的位置局部地变化。

主权项

一种涂敷处理装置，其通过向旋转的基板的表面供给涂敷液并使供给来的涂敷液扩向上述基板的外周侧扩散，在上述基板的表面涂敷涂敷液，其中，该涂敷处理装置包括：基板保持部，其用于保持基板；旋转部，其用于使被上述基板保持部保持的上述基板旋转；供给部，其用于向被上述基板保持部保持的上述基板的表面供给涂敷液；气流控制板，其设置在被上述基板保持部保持的上述基板的上方的规定位置，用于使利用上述旋转部进行旋转的上述基板的上方的气流在任意的位置局部地变化。