[发明专利]柔性衬底纳米金刚石薄膜及其制备方法与应用无效
| 申请号： | 201210117613.4 | 申请日： | 2012-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102634793A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 史新伟;姚宁;李杏瑞;张兵临;程春晓;柴士磊;周秋霞;靳慧智 | 申请（专利权）人： | 郑州大学 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00 |
| 代理公司： | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人： | 樊羿 |
| 地址： | 450001 河南省郑*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种柔性衬底纳米金刚石薄膜及其制备方法与应用。其包括金属柔性衬底层、研磨层，在所述金属柔性衬底层和研磨层之间设置有过渡层，所述过渡层是在所述金属柔性衬底层的抛光面上溅射沉积而形成的金属过渡层，所述研磨层是通过添加H2和Ar及CH4利用微波等离子体增强化学气相沉积方法在所述过渡层上制备而成的纳米金刚石薄膜层。本发明中的纳米金刚石的晶粒尺寸小于100nm，表面粗糙度小，表面极其光滑平；膜基附着力强，在抛光过程中不脱落；替代抛光粉，可有效改善现有抛光工艺的不足，避免对环境造成污染，拓展了纳米金刚石薄膜的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性 衬底 纳米 金刚石 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种柔性衬底纳米金刚石薄膜，包括金属柔性衬底层、研磨层，其特征在于，在所述金属柔性衬底层和研磨层之间设置有过渡层，所述过渡层是在所述金属柔性衬底层的抛光面上溅射沉积而形成的金属过渡层，所述研磨层是通过添加H2和Ar及CH4利用微波等离子体增强化学气相沉积方法在所述过渡层上制备而成的纳米金刚石薄膜层。
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