[发明专利]光学加工系统和方法有效
| 申请号： | 201210114482.4 | 申请日： | 2012-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN102621824A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 胡进;浦东林;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光学加工系统，包括：加工平台，实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动；空间光调制器，产生设计图形；投影光学系统，包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器，所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上。申请的光学加工系统和方法实现的灰度等级不依赖于曝光时间和曝光次数，可以在极短曝光时间内和单次曝光的条件下实现准确的灰度等级，因而完全适用于飞行曝光加工方式，加工效率和定位精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 加工 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种光学加工系统，其特征在于，包括：加工平台，实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动；空间光调制器，产生设计图形；投影光学系统，包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器，所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上，所述设计图形通过所述投影光学系统以一定的放大倍率投影至位于加工平台上的待加工物表面上，并实现曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司，未经苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210114482.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
