[发明专利]光学加工系统和方法有效
申请号: | 201210076397.3 | 申请日: | 2012-03-21 |
公开(公告)号: | CN102591159A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 胡进;浦东林;陈林森 | 申请(专利权)人: | 苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 常亮;李辰 |
地址: | 215123 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种光学加工系统,包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统、位置补偿系统和光源。其中,位置补偿系统包括位置检测系统、空间光调制器、位置信号处理模块和偏差筛选模块。本发明的光学加工系统中,加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动,光学模板实现第三运动轴的扫描运动,通过空间光调制器对第二运动轴方向上的曝光位置进行动态补偿,实现了第二运动轴和第三运动轴这两个扫描轴的精确高速同步,从而能够以“两轴扫描、一轴步进”的方式实现三维加工,其加工效率和加工精度大幅提升。 | ||
搜索关键词: | 光学 加工 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种光学加工系统,其特征在于:包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统和位置补偿系统,其中,所述加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动,所述光学模板实现第三运动轴的扫描运动,所述位置补偿系统包括:位置检测系统,用于检测待加工物或光学模板的位置;空间光调制器,其用于产生一位置控制域,该位置控制域投影至光学模板并经光学投影镜头缩放后,在位于加工平台上的待加工物表面的预定曝光区曝光,所述空间光调制器具有位置补偿区,位于所述位置控制域的四周,且所述位置控制域能动的产生于该位置补偿区中;位置信号处理模块,输出第一触发脉冲至空间光调制器,以控制所述位置控制域在所述位置补偿区中进行偏移,当所述位置检测系统检测到预定曝光区与位置控制域在待加工物表面投影的区域之间产生一位置误差时,所述位置信号处理模块控制所述空间光调制器,并使得所述位置控制域在位置补偿区中产生相应的位置偏移,该位置偏移满足所述位置控制域在投影至光学模板并经光学投影镜头缩放后,达到预定曝光区;偏差筛选模块,判断所述位置误差是否满足设定条件,在所述位置误差满足设定条件时,触发曝光脉冲并实现曝光。
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