[发明专利]一种基于大尺寸石墨烯的饱和吸收镜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210053561.9 申请日: 2012-03-02
公开(公告)号: CN102545008A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 姜守振;许士才;满宝元;刘杰;杨诚;范秀伟;刘玫 申请(专利权)人: 山东师范大学
主分类号: H01S3/098 分类号: H01S3/098
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 王立晓
地址: 250014 山*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种基于大尺寸石墨烯的饱和吸收镜的制备方法,在Cu箔上制备单层石墨烯膜,在石墨烯膜上旋涂聚甲基丙烯酸甲酯PMMA,热烘后放入FeCl3溶液中室温浸泡,清洗,然后将石墨烯膜及其上的PMMA迁移到激光高反镜,用气枪弱气流吹至激光高反镜的表面。本发明方法简单、高效、抗损伤阈值高、面积大,所制备的可饱和吸收镜中的石墨烯能够保持完整的化学结构,石墨烯的尺寸在厘米量级。
搜索关键词: 一种 基于 尺寸 石墨 饱和 吸收 制备 方法
【主权项】:
一种基于大尺寸石墨烯的饱和吸收镜的制备方法,其特征是,包括步骤如下:(1)在Cu箔上制备单层石墨烯膜;(2)将带石墨烯膜的Cu箔剪成圆形;在圆形Cu箔的石墨烯膜表面上旋涂聚甲基丙烯酸甲酯PMMA,涂完后将其放在150‑180℃热板上烘4‑8min;(3)将烘后的Cu箔放入FeCl3溶液中室温浸泡,至石墨烯膜从Cu箔基底脱落并将Cu腐蚀完全,将石墨烯膜及其上的PMMA迁移到水中清洗去除FeCl3;(4)将清洗好的石墨烯膜及其上的PMMA迁移到激光高反镜,石墨烯膜层与镜面接触,用气枪弱气流吹至表面激光高反镜;(5)自然干燥,再放入150‑180℃热板上烘45‑60min,将烘干的激光高反镜放入丙酮中溶去PMMA,用乙醇清洗,自然干燥。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东师范大学,未经山东师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210053561.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top