[发明专利]一种光刻胶清洗液在审
| 申请号： | 201210042760.X | 申请日： | 2012-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN103293882A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;孙广胜 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶清洗液，该清洗液包含醇胺，四氢糠醇以及苯并三氮唑和/或其衍生物。该光刻胶清洗液可以用于LED和半导体中光刻胶的去除，同时对于基材基本没有攻击，如金属铝、铜等，更为突出的是该清洗液体系具有较强的耐水性，拓宽了其操作窗口。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 清洗 | ||
【主权项】：
一种光刻胶清洗液，其包含：醇胺，四氢糠醇，以及苯并三氮唑和/或其衍生物。
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