[发明专利]低光亮镀膜透红外线卤素加热管的制备工艺

摘要

本发明公开了一种低光亮镀膜透红外线卤素加热管的制备工艺，该工艺的步骤如下：（1）切割石英玻璃管；（2）石英玻璃管内壁蒙砂；（3）制作红外线卤素加热管；（4）镀膜。通过本发明的工艺制备的低光亮镀膜透红外线卤素加热管在不降低发热效率和寿命、不增加漏光强度和面积的前提下，有效降低可见光的辐射总量，低于原镀金管辐射总量的30%，在工作状态下使人感觉不到刺眼，具有防炫目和避免光污染的效果。同时，本发明增加了镀膜层数，将原有膜层数增加至16层，更有效地降低了可见光的透过，达到低光亮的目的。

主权项

一种低光亮镀膜透红外线卤素加热管的制备工艺，其特征在于该工艺的步骤如下：1）切割石英玻璃管：对原材料石英玻璃管进行切割，切割成若干规格长度的石英玻璃管，对切割好的石英玻璃管外壁用热缩管封装热缩保护；2）石英玻璃管内壁蒙砂：将若干热缩好的石英玻璃管进行捆扎，捆扎好后的石英玻璃管的两头分别置于蒙砂液中，并保证石英玻璃管完全浸入蒙砂液内，时间均为280～320秒钟，蒙砂液的温度保持23~27℃，然后将置于蒙砂液中的石英玻璃管取出，充分清洗，去掉热缩管，然后将其置于氢氟酸液浸泡20~25分钟后取出，清洗并烘干；3）制作红外线卤素加热管：选择发热丝（11）、支架丝（12）和内壁经过蒙砂的石英玻璃管（13）等进行装配组合；4）镀膜：对通过检验合格的、内壁经过蒙砂的卤素加热管经表面抛光、清洁处理后，装入采用电子枪为蒸发源的真空室，抽真空，并开启烘烤加热，直至达到工艺所需的真空度(1.1×10‑2～1.3×10‑2Pa)与温度(170~180℃)后关闭烘烤加热，启动离子源对卤素加热管进行清洗280~320秒钟后关闭离子源，启动电子枪分别对膜材料进行蒸发，膜系采用长波通，蒸发材料分别为三氧化二铁和二氧化硅两种氧化物，交替进行，共16层，蒸发过程中保证真空室的真空度稳定，镀膜结束后取出卤素加热管，对卤素加热管表面膜层进行高温固化，即得成品。