[发明专利]用于涡电流终点检测的抛光垫在审

专利信息
申请号: 201180057370.3 申请日: 2011-09-28
公开(公告)号: CN103260828A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: W·C·阿里森;D·斯科特;P·黄;R·弗伦泽尔;A·W·辛普森 申请(专利权)人: 内克斯普拉纳公司
主分类号: B24B37/24 分类号: B24B37/24;B24B49/04;B24B49/10
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 吴鹏;马江立
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明描述了用于利用涡电流终点检测来抛光半导体衬底的抛光垫。本发明还描述了制作用于利用涡电流终点检测来抛光半导体衬底的抛光垫的方法。
搜索关键词: 用于 电流 终点 检测 抛光
【主权项】:
一种用于抛光半导体衬底的抛光垫,所述抛光垫包括:包括抛光表面和背面的模制均质抛光主体;和设置在所述模制均质抛光主体中并与其共价结合的终点检测区域,所述终点检测区域包括与所述模制均质抛光主体不同的材料,所述终点检测区域的至少一部分相对于所述模制均质抛光主体的所述背面凹进。
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