[发明专利]用于氢生产的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201180056041.7 申请日: 2011-11-24
公开(公告)号: CN103249672A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 谢嘉骏;S·皮特斯 申请(专利权)人: 谢嘉骏
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02;C01B3/30;C23C16/26;C23C16/442
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 王崇;刘国平
地址: 中国香港湾仔*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 用于生产氢气、碳材料和/或一氧化碳气体的系统包括用于化学气相沉积(CVD)的反应室,其中,所述CVD室包括限定具有下部和上部的腔的向上延伸壁,其中,上部的体积容量大于下部的体积容量,并且所述壁提供有具有多个延伸至腔体中的突出的内表面,用于降低在那里的腔体的水平横截面积。
搜索关键词: 用于 生产 系统 方法
【主权项】:
一种用于混合生产氢气、碳材料和一氧化碳气体的系统,所述系统包括用于化学气相沉积的反应室,其中,所述反应室包括限定具有下部和上部的腔体的向上延伸壁,其中,该腔体的上部的体积容量大于下部的体积容量,使得为具有较低密度的材料提供较长的停留时间,并且具有不同密度的材料可在反应室中实现相同或类似的循环速度,并且其中,所述壁限定提供有多个延伸至腔体中的突出的内表面,用于降低在那里的腔体的水平横截面积。
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