[发明专利]用射频处理导管中流体的方法和装置无效

专利信息
申请号: 201180052440.6 申请日: 2011-10-28
公开(公告)号: CN103282113A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 丹尼尔·斯特凡尼尼;D·罗得里格斯 申请(专利权)人: 海卓佩斯控股有限公司
主分类号: B01J19/12 分类号: B01J19/12;C02F1/48
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;王小东
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种通过应用射频电磁信号处理导管中流体的装置,所述装置包括:围绕所述导管延伸的由导磁材料制成的芯元件;以及一个或更多个初级线圈,所述芯元件延伸穿过所述初级线圈,并且通过至少一个信号发生器由射频电信号激励所述初级线圈,其中,所述初级线圈或者所述初级线圈中的至少一个初级线圈具有环绕所述芯元件和所述导管的广度和/或设置,以在整个所述芯元件上建立有效磁场。
搜索关键词: 射频 处理 导管 流体 方法 装置
【主权项】:
一种通过应用射频电磁信号处理导管中流体的装置,所述装置包括:围绕所述导管延伸的由导磁材料制成的芯元件;以及一个或更多个初级线圈,所述芯元件延伸穿过所述初级线圈,并且通过至少一个信号发生器由射频电信号激励所述初级线圈;其中,所述初级线圈或者所述初级线圈中的至少一个初级线圈具有环绕所述芯元件和所述导管的广度和/或具有环绕所述芯元件和所述导管的设置,以在整个所述芯元件上建立有效磁场。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海卓佩斯控股有限公司,未经海卓佩斯控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180052440.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top