[发明专利]图案形成方法、基板制造方法及模具制造方法无效
| 申请号： | 201180046611.4 | 申请日： | 2011-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103124929A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 梅泽朋一 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种图案形成方法，其抑制对基板造成的损害，并去除光刻胶层上的异物。于基板(11)上形成包含可实现加热模式的形状变化的有机色素的光刻胶层(12)。对光刻胶层(12)照射激光，而于光刻胶层的照射有激光的部分形成孔部(13)。于真空中使用规定的气体对光刻胶层(12)进行蚀刻，而去除照射激光来形成孔部(13)时所产生的异物。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 制造 模具 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，其特征在于，包括：于基板上形成包含可实现加热模式的形状变化的有机色素的光刻胶层的步骤；对上述光刻胶层照射激光，而于上述光刻胶层的照射有上述激光的部分形成孔部的步骤；以及于形成上述孔部的步骤之后，在真空中使用规定的气体对上述光刻胶层进行蚀刻的步骤。
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