[发明专利]光学膜的制造方法有效
| 申请号： | 201180045129.9 | 申请日： | 2011-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN103119480A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 西村明宪;泷田智仁;中村恒三;武本博之;渊田岳仁 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;B32B7/02;B32B27/30;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学均一性及耐擦伤性优异的至少为2层构造的光学膜的制造方法。本发明的制造方法具有：在基材膜的一面上涂敷含有不具有反应性基团的氟系流平剂的第1涂敷液而形成第1功能层的第1涂敷工序、及在该第1功能层的表面涂敷第2涂敷液而形成第2功能层的第2涂敷工序，该氟系流平剂在涂布该第2涂敷液时偏在于该第1功能层表面，并在涂布该第2涂敷液后洗脱至该第2涂敷液中，偏在于形成的第2功能层表面。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学膜的制造方法，其包括：在基材膜的一个面涂敷含有不具有反应性基团的氟系流平剂的第1涂敷液而形成第1功能层的第1涂敷步骤、及在该第1功能层的表面涂敷第2涂敷液而形成第2功能层的第2涂敷步骤，就该氟系流平剂而言，在涂布该第2涂敷液时偏在于该第1功能层表面，并在涂布该第2涂敷液后洗脱到该第2涂敷液中，而偏在于所形成的第2功能层表面。
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