[发明专利]防止光催化剂亲水性降低的方法有效
| 申请号： | 201180036027.0 | 申请日： | 2011-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN103025981A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 片冈健治 | 申请（专利权）人： | 石原产业株式会社 |
| 主分类号： | E04F13/08 | 分类号： | E04F13/08;B01J33/00;B01J35/02;E04B1/682;E06B3/56 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 彭立兵;林柏楠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了一种防止光催化剂由于组分渗出用于固定建筑材料、外部材料、玻璃结构、或在形成光催化剂层上的其他制品的密封材料受到污染而亲水性降低的方法。在所述方法中，在密封材料的表面上形成透明的密封材料组分渗出防止层，其包括含有与环氧树脂接枝聚合或共聚的可聚合的不饱和单体的改性环氧树脂。所述可聚合的不饱和单体包括含羧基的单体，并且在接枝聚合或共聚后羧基/环氧基反应得到的改性环氧树脂为更优选的。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 光催化剂 亲水性 降低 方法 | ||
【主权项】：
一种用于防止光催化剂亲水性降低的方法，包括以下步骤：在固定制品的密封剂的表面上形成透明防止层，该制品具有在制品的至少一部分表面上形成的光催化剂层，并且该透明防止层包括通过使可聚合的不饱和单体与环氧树脂接枝聚合或共聚制备的改性环氧树脂，并且防止密封剂组分从密封剂中渗出。
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