[发明专利]一种用于生产铜离子改性氧化钨光催化剂的分散体的方法无效
| 申请号： | 201180034010.1 | 申请日： | 2011-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN102985178A | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | 细木康弘 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | B01J23/888 | 分类号： | B01J23/888;B01J35/00;B01J37/00;B01J37/14;B01J35/10 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 彭立兵;林柏楠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于生产铜离子改性氧化钨光催化剂的分散体的方法，包括以下步骤：在溶剂中对铜离子改性氧化钨颗粒进行机械研磨处理的步骤；和使得到的研磨颗粒的分散体和氧气或臭氧接触；和一种铜离子改性氧化钨光催化剂，其通过在溶剂中对铜离子改性氧化钨颗粒进行机械研磨处理和然后使得到的研磨颗粒的分散体和氧化气体接触生产，其中通过干燥和氧化气体接触后的分散体得到的光催化剂粉末在700nm的波长下测量时具有75%或更高的漫反射率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 生产 离子 改性 氧化钨 光催化剂 散体 方法 | ||
【主权项】：
一种用于生产铜离子改性氧化钨光催化剂的分散体的方法，包括以下步骤：在溶剂中对铜离子改性氧化钨颗粒进行机械研磨处理；和使得到的研磨颗粒的分散体和氧气或臭氧接触。
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