[发明专利]X射线产生装置有效
| 申请号： | 201180033368.2 | 申请日： | 2011-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN102972099A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 石田稔幸 | 申请（专利权）人： | BSR股份有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 日本爱知县名古屋*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 达成在使用紫外线雷射类型的X射线产生装置中稳定地产生X射线。其解决手段为：提供一种X射线产生方法，该X射线产生方法系将从紫外线雷射产生装置放出的紫外线雷射照射于电子束放出元件的紫外线雷射受光面，而从电子束放出元件中的与紫外线雷射受光面相异的电子束放出面所放出的电子束朝金属片照射，使该金属片产生X射线，其中控制紫外线雷射以防止紫外线雷射受光面的物质变性。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 产生 装置 | ||
【主权项】：
一种X射线产生装置，其系具备下列要素所构成：紫外线雷射产生装置；电子束放出元件，其具备接受从该紫外线雷射产生装置放出的紫外线雷射的紫外线雷射受光面、及电子束放出面，且前述紫外线雷射受光面和前述电子束放出面设为不同的面；金属片，其接受由前述电子束放出面放出的电子束而放出X射线；及变性防止手段，其防止前述紫外线雷射受光面的物质因前述紫外线雷射而变性。
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