[发明专利]微阵列有效
申请号: | 201180029536.0 | 申请日: | 2011-04-15 |
公开(公告)号: | CN102971629B | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | A·海恩斯;A·C·帕特里奇;Y·吴 | 申请(专利权)人: | 数码传感有限公司 |
主分类号: | G01N33/53 | 分类号: | G01N33/53;C12M1/34;C12Q1/68 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 韦东 |
地址: | 新西兰方*** | 国省代码: | 新西兰;NZ |
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摘要: | 公开了使用三维或结构微阵列制备二维微阵列的方法。本发明涉及通过惰性材料在三维微阵列的表面结构上成层来形成限定的功能化区域。然后除去足量的所述惰性材料和足量的表面结构顶部以现出所述惰性材料内表面结构的限定区域。 | ||
搜索关键词: | 阵列 | ||
【主权项】:
一种用于测定样品中感兴趣靶化合物的存在的三维微阵列,所述微阵列包括:a)包括多个表面结构的基材,所述表面结构由基材形成并从基材凸出;b)所述多个表面结构包括感应剂,所述感应剂能连接样品中的感兴趣靶化合物,所述感应剂包括在各表面结构顶部上限定的功能化区域上,和c)所述微阵列在限定的功能化区域之间涂覆有惰性材料。
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