[发明专利]制造气体屏蔽膜的方法以及所制造的气体屏蔽膜有效
| 申请号： | 201180014309.0 | 申请日： | 2011-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN102812074A | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 伊藤滋英 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 牛海军 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种通过根据辊至辊工艺制造的气体屏蔽膜，所述气体屏蔽膜在气体屏蔽性能上优异。该气体屏蔽膜通过以下方式制造：设置低硬度层作为所述基材膜的第二表面上的最顶层，所述低硬度层的铅笔硬度比所述有机层的铅笔硬度低两级以上；和在所述基材膜的所述第一表面上设置所述有机层。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 气体 屏蔽 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种根据辊至辊工艺制造气体屏蔽膜的方法，所述气体屏蔽膜包括在基材膜的第一表面上的有机层和无机层，所述方法包括：设置低硬度层作为所述基材膜的第二表面上的最顶层，所述低硬度层的铅笔硬度比所述有机层的铅笔硬度低两级以上；和在所述基材膜的所述第一表面上设置所述有机层。
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