[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201180010603.4 | 申请日： | 2011-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN102770810A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 约翰内斯·昂伍李;彼得·德亚格尔;埃尔温·范茨韦特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：两个或更多的光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上，所述两个或更多的光学装置列中的每一个包括用于提供所述束的一个或更多的辐射源（906）和用于将所述束投影到目标部分上的投影系统（920、924、930）；扫描移动致动器，配置成相对于所述两个或更多的光学装置列沿扫描方向以扫描速度移动衬底；和两个或更多的位置测量装置（944），配置成确定相应的两个或更多的光学装置列相对于参考物体（940）的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：两个或更多的光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上，所述两个或更多的光学装置列中的每一个包括用于提供所述束的一个或更多的辐射源和用于将所述束投影到目标部分上的投影系统；扫描移动致动器，配置成相对于所述两个或更多的光学装置列沿扫描方向以扫描速度移动衬底；和两个或更多的位置测量装置，配置成确定相应的两个或更多的光学装置列相对于参考物体的位置。
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