[实用新型]聚四氟乙烯喷头装置有效

专利信息
申请号: 201120345035.0 申请日: 2011-09-15
公开(公告)号: CN202290371U 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 张贵明;胡长亮;刘士伟 申请(专利权)人: 朝阳金达钼业有限责任公司
主分类号: B05B1/34 分类号: B05B1/34;B01D53/78;B01D53/50
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 蒋常雪
地址: 122000 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种聚四氟乙烯喷头装置,所述装置包括聚流罩和旋流盘,所述聚流罩为一个圆柱状罩体,聚流罩上部为一个圆柱通孔,圆柱通孔下部为一个和圆柱通孔相连通的锥形腔,锥形腔底部安装旋流盘,所述旋流盘为一个圆盘,旋流盘上沿圆盘上、下表面均匀分布有两层相贯通的圆孔,上、下层圆孔一一对应、均匀分布,上、下两个相对应的圆孔的圆心相互交错分布使上、下两层圆孔形成一个螺旋型通孔。本实用新型结构简单,操作方便,耐酸碱腐蚀,耐高温(小于240℃)、安装方便,避免了常规喷头处理易结晶液体的堵塞现象,使用寿命长。
搜索关键词: 聚四氟乙烯 喷头 装置
【主权项】:
一种聚四氟乙烯喷头装置,其特征在于:所述装置包括聚流罩和旋流盘,所述聚流罩为一个圆柱状罩体,聚流罩上部为一个圆柱通孔,圆柱通孔下部为一个和圆柱通孔相连通的锥形腔,锥形腔底部安装旋流盘,所述旋流盘为一个圆盘,旋流盘上沿圆盘上、下表面均匀分布有两层相贯通的圆孔,上、下两层圆孔一一对应、均匀分布,上、下两个相对应的圆孔的圆心相互交错分布使上、下两层圆孔形成一个螺旋型通孔。
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