[实用新型]一种高分子材料表面改性等离子体处理装置有效
申请号: | 201120333713.1 | 申请日: | 2011-09-07 |
公开(公告)号: | CN202318981U | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 王红卫 | 申请(专利权)人: | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 |
主分类号: | B29C71/04 | 分类号: | B29C71/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种高分子材料表面改性等离子体处理装置,真空密封室内的电极采用圆柱状,并按“+”、“-”相间的阵列方式放置;电极阵列两端安装有导向辊,物料经导向辊在电极对中通过;电极内部为空腔,两端分别设有冷却水进、出口,与冷却水循环装置连接。通过控制主动导向辊的正、反转,使物料能够正、反向传输。本实用新型所述方法及其装置不仅能完成对薄膜状高分子材料的等离子体表面活化处理,而且可以同步完成等离子体接枝或等离子体沉积处理,具有处理效果均匀、工作效率高、无环境污染等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 高分子材料 表面 改性 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种高分子材料表面改性等离子体处理装置,包括真空密封室及通过管道连接的真空泵、连接高频电源的电极对和喂料装置,其特征在于,所述的真空密封室内的电极为圆柱状,内部为空腔,电极两端分别设有冷却水进、出口,冷却水进、出口通过接口管道与真空室外部的冷却水循环装置连接,电极按正极、负极相间的阵列方式放置。
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