[实用新型]光罩清洁装置有效
申请号: | 201120299150.9 | 申请日: | 2011-08-17 |
公开(公告)号: | CN202189222U | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 杨家豪;潘咏晋 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 梁爱荣 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型是光罩清洁装置,涉及一种以擦拭方式来清洁光罩的装置,特别是指一种可有效去除附着于光罩任一侧凸缘及于凸缘侧的外框侧边上微粒子与雾化污渍的光罩清洁装置;此光罩清洁装置至少包含光罩升降组、清洗夹头组、水平位移组、清洁区及点胶机所组成,可达成有效且迅速地的去除光罩任一侧上的凸缘及于凸缘侧的外框侧边上附着的微粒及雾化污渍,并可节省人工及废水处理成本及缩短光罩清洗时间,且进一步可确保光罩清洗后的洁净度,以利于提升半导体制程良率。 | ||
搜索关键词: | 清洁 装置 | ||
【主权项】:
一种光罩清洁装置,其特征在于,包括:一框架;一水平位移组,是位于该框架的上侧,由一对传输轨道所形成;一清洗夹头组,是位于该水平位移组上方,与该水平位移组的两端枢接;一清洁区,是位于该水平位移组所形成该传输轨道中,其是由该清洁区一侧的湿式清洁区,及相对另一侧的干式清洁区所组成;一点胶机,是位于该清洁区下方,用于控制该清洁区中该湿式清洁区的出水量;一光罩升降组,是位于该框架的一侧边,并是采用机械作动方式升降。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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