[实用新型]光罩清洁装置有效

专利信息
申请号: 201120299150.9 申请日: 2011-08-17
公开(公告)号: CN202189222U 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 杨家豪;潘咏晋 申请(专利权)人: 家登精密工业股份有限公司
主分类号: G03F1/82 分类号: G03F1/82
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 梁爱荣
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型是光罩清洁装置,涉及一种以擦拭方式来清洁光罩的装置,特别是指一种可有效去除附着于光罩任一侧凸缘及于凸缘侧的外框侧边上微粒子与雾化污渍的光罩清洁装置;此光罩清洁装置至少包含光罩升降组、清洗夹头组、水平位移组、清洁区及点胶机所组成,可达成有效且迅速地的去除光罩任一侧上的凸缘及于凸缘侧的外框侧边上附着的微粒及雾化污渍,并可节省人工及废水处理成本及缩短光罩清洗时间,且进一步可确保光罩清洗后的洁净度,以利于提升半导体制程良率。
搜索关键词: 清洁 装置
【主权项】:
一种光罩清洁装置,其特征在于,包括:一框架;一水平位移组,是位于该框架的上侧,由一对传输轨道所形成;一清洗夹头组,是位于该水平位移组上方,与该水平位移组的两端枢接;一清洁区,是位于该水平位移组所形成该传输轨道中,其是由该清洁区一侧的湿式清洁区,及相对另一侧的干式清洁区所组成;一点胶机,是位于该清洁区下方,用于控制该清洁区中该湿式清洁区的出水量;一光罩升降组,是位于该框架的一侧边,并是采用机械作动方式升降。
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