[实用新型]抛光磨具有效
| 申请号： | 201120263999.0 | 申请日： | 2011-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN202169526U | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 李长勇 | 申请（专利权）人： | 成都光明光电股份有限公司;成都光明光学元件有限公司 |
| 主分类号： | B24B13/01 | 分类号： | B24B13/01 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所 51124 | 代理人： | 蒲敏 |
| 地址： | 610051 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种聚氨酯片的有效利用率高、抛光效率高且抛光模面型稳定的模具。抛光磨具，包括抛光基模，在所述抛光基模上粘贴有聚氨酯片，所述聚氨酯片是小圆片或小半圆片。由于本实用新型采用聚氨酯小圆片或小半圆片进行抛光磨具的粘贴，因此整张聚氨酯片的有效利用面积就会增大，可节约聚氨酯的成本，比传统聚氨酯片的利用率大20％左右；由于本实用新型的聚氨酯小圆片或小半圆片间隙大且排列均匀，因此，抛光液容易进入抛光磨具的每一个地方，抑制了钝化现象的产生，保持了切削力；由于本实用新型的抛光液摄入充足，同条件下零件所受的压强增大，因此切削力强，使得抛光效率大大提高，比传统方式高30％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 磨具 | ||
【主权项】：
抛光磨具，包括抛光基模(1)，在所述抛光基模(1)上粘贴有聚氨酯片(2)，其特征在于：所述聚氨酯片(2)是小圆片或小半圆片(6)。
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