[实用新型]均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔有效
| 申请号： | 201120206259.3 | 申请日： | 2011-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN202161996U | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 梁长浩;张和民;刘俊;田振飞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | B01J19/18 | 分类号： | B01J19/18;B01J13/00 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 余成俊 |
| 地址： | 230031 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔，包括支架和筒体，其特征在于：支架上转动安装有转座，所述的筒体通过支杆固定安装于转座上，转座与筒体之间设有放置磁力搅拌器的间隙，所述筒体内设有样品台，样品台上设有若干通孔，所述的筒体外壁上设有进液口、出液口以及进气口和出气口，所述的出液口位于筒体底部，筒体底部放置有与磁力搅拌器配合的磁搅拌子，筒体上端安装有开启盖，开启盖上设有玻璃窗口且安装有真空表。本实用新型一方面拓展了液相激光烧蚀技术规模化的生产，另一方面也为其工业应用打下了基础。 | ||
| 搜索关键词： | 均相 胶体 激光 连续 制备 反应 | ||
【主权项】：
均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔，包括支架和筒体，其特征在于：支架上转动安装有转座，所述的筒体通过支杆固定安装于转座上，转座与筒体之间设有放置磁力搅拌器的间隙，所述筒体内设有样品台，样品台上设有若干通孔，所述的筒体外壁上设有进液口、出液口以及进气口和出气口，所述的出液口位于筒体底部，筒体底部放置有与磁力搅拌器配合的磁搅拌子，筒体上端安装有开启盖，开启盖上设有玻璃窗口且安装有真空表。
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