[实用新型]用于清洗溶液罐的罐体盖机构无效
申请号: | 201120151004.1 | 申请日: | 2011-05-10 |
公开(公告)号: | CN202063359U | 公开(公告)日: | 2011-12-07 |
发明(设计)人: | 管凯华 | 申请(专利权)人: | 管凯华 |
主分类号: | B65D43/00 | 分类号: | B65D43/00;B65D23/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 311202 浙江省杭州市萧*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种用于清洗溶液罐的罐体盖机构由罐体(1)和罐体盖(2)组成,罐体(1)上设有罐体盖(2),罐体盖(2)上部设有的吊环(3)和进口管(4),吊环(3)的一侧是进口管(4),这样解决了罐体盖机构结构复杂,不稳定的现象。用于清洗溶液罐的罐体盖机构结构简单,提高稳定性。 | ||
搜索关键词: | 用于 清洗 溶液 罐体盖 机构 | ||
【主权项】:
一种用于清洗溶液罐的罐体盖机构,其特征在于:包括罐体(1)和罐体盖(2),罐体(1)上设有罐体盖(2),罐体盖(2)上部设有的吊环(3)和进口管(4),吊环(3)的一侧是进口管(4)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于管凯华,未经管凯华许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120151004.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种对投影光刻机步进及扫描运动轨迹的规划方法
- 下一篇:像素电极结构