[发明专利]用于分析带电粒子束的密度的装置和方法无效
| 申请号： | 201110463322.6 | 申请日： | 2011-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN102608395A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | P·J·奥旺 | 申请（专利权）人： | 高级冶金技术公司 |
| 主分类号： | G01R19/08 | 分类号： | G01R19/08;G01B7/00;G01T1/29 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘敏 |
| 地址： | 法国梅*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 用于通过使用穿有孔7的转动靶2来分析带电粒子束F的截面中的电流密度的装置和方法。这种装置和相关的处理方法使得能够不用断层X线摄影重构方法来重构电流密度的3D图像。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分析 带电 粒子束 密度 装置 方法 | ||
【主权项】：
用于分析带电粒子入射束(F)中的电流密度的装置(1)，其特征在于，所述装置包括：活动靶(2)，所述活动靶被布置以便在分析过程中在其中投射所述入射束(F)；至少一个孔(7)，其穿过所述活动靶(2)并且被布置以便当所述靶(2)移动时每个孔(7)按照各自的路径经过所述束的截面，以及仅入射束(F)的一部分(dF)通过所述孔(7)穿过所述靶；和，用于测量所述部分(dF)的电流密度的部件(8)。
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