[发明专利]等离子显示器的介质保护膜及其制备方法和等离子显示器无效
申请号: | 201110460307.6 | 申请日: | 2011-12-31 |
公开(公告)号: | CN103762137A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 罗向辉;邢芳丽 | 申请(专利权)人: | 四川虹欧显示器件有限公司 |
主分类号: | H01J9/02 | 分类号: | H01J9/02;H01J11/40;H01J11/10 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;余刚 |
地址: | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供了一种等离子显示器的介质保护膜,其制作方法以及包括该介质保护膜的等离子显示器。该制作方法是在介质保护膜的制作过程中采用间歇式通氧工艺,从而得到了具有多层氧化镁层的介质保护膜。根据本发明的制作方法,工艺过程简单,只需在现有设备上加装控制氧气流量和通气时间的系统即可,可以在基本上不改变设备结构的基础上实现,工艺设备的改造投入少。通过本发明提供的方法所得到的介质保护膜具有多层氧化镁层,通氧条件下形成的氧化镁层结晶度较高,无氧条件下形成的氧化镁层较致密,使得含有其的等离子显示器能够在较低的电压下获得较高的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 等离子 显示器 介质 保护膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种等离子显示器介质保护膜的制作方法,包括介质保护膜材料在介质层上生长,形成所述介质保护膜的步骤,其特征在于,在所述介质保护膜材料的生长过程中,采用间歇式通氧工艺。
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