[发明专利]具自转及公转复合式真空溅镀设备有效
| 申请号： | 201110451209.6 | 申请日： | 2011-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN103184416A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 杨济华;杨景富;卓廷彬;高于迦;吴政谚 | 申请（专利权）人： | 财团法人金属工业研究发展中心 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 董惠石 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于镀膜的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其包含有一腔体、一滚筒、多个治具、至少一靶台及一使各治具自转并相对靶台的靶源公转的动力装置，该腔体具有一能形成真空的内部空间，该滚筒设于该腔体的内部空间内，治具皆设于该滚筒内，且环绕排列于该滚筒的轴心外，靶台设于该滚筒内，该靶台上设有至少一靶源。本发明使用时，通过使各治具在环绕靶台的靶源公转时，亦同时自转，因此治具上的待镀物，其每一面皆可轮流朝向靶台的靶源，进而使每一面皆可轮流接触到离子浓度较高之处，以使各面的镀膜厚度更为均匀。本发明借此达到可使待镀物的各面均匀镀膜的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 自转 公转 复合 真空 设备 | ||
【主权项】：
一种具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述具自转及公转复合式真空溅镀设备包含：一腔体，其具有一能形成真空的内部空间；一滚筒，其设于所述腔体的内部空间内；多个治具，其皆设于所述滚筒内，且环绕排列于所述滚筒的轴心外；至少一靶台，其设于所述滚筒内，所述靶台上设有至少一靶源；以及一使各所述治具自转并相对所述靶台的靶源公转的动力装置。
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