[发明专利]一种铈基抛光液残留物的清洗方法有效
| 申请号： | 201110430321.1 | 申请日： | 2011-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102517594A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 马瑾;郭云飞;张艳 | 申请（专利权）人： | 西安北方捷瑞光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/02 | 分类号： | C23G1/02 |
| 代理公司： | 西安西交通盛知识产权代理有限责任公司 61217 | 代理人： | 陈翠兰 |
| 地址： | 710075 陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铈基抛光液残留物的清洗方法，包括：1)采用HNO3∶H2O2∶H2O酸性溶液清洗零件表面残留的铈基抛光粉；2)用纯水喷淋的方式清洗从步骤1)中取出的零件；3)量取纯水，称取乙二胺四乙酸(EDTA)和氢氧化钠，并完全溶解于纯水中；4)取步骤3)中已经配制好的溶液稀释于纯水中，放置电炉上煮沸；5)将步骤2)洗好的 零件放入步骤4)溶液中煮沸；6)用纯水喷淋方式清洗从步骤5)中取出的零件。本发明方法利用酸性溶液溶解大部分残余抛光粉；利用EDTA试剂与铈基金属铬合，将零件表面残余金属离子经络合、沉淀后脱离零件表面；再利用氢氧化钠去除抛光液中有机物，使得零件表面的残留抛光粉易清洗、时间短，对零件表面的微粗糙度影响小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 残留物 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种铈基抛光液残留物的清洗方法，包括以下步骤：1)采用体积比为HNO3∶H2O2∶H2O＝1∶1∶1的酸性溶液清洗零件表面残留的铈基抛光粉；2)用纯水喷淋的方式清洗从步骤1)中取出的零件，清洗5min；3)量取纯水600ml，称取乙二胺四乙酸8g和氢氧化钠3.5‑4g，并完全溶解于所述600ml纯水中；4)取步骤3)中已经配制好的溶液稀释至2‑5倍纯水中，放置电炉上煮沸；5)将步骤2)中洗好的零件放入步骤4)的溶液中煮沸；6)用纯水喷淋的方式清洗从步骤5)中取出的零件，清洗5min，即完成铈基抛光液残留物的清洗。
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