[发明专利]同步型栅格的箔影去除方法以及放射线摄影装置有效

专利信息
申请号: 201110420448.5 申请日: 2011-12-13
公开(公告)号: CN102525512A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 藤田明德 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提出一种同步型栅格的箔影去除方法以及放射线摄影装置。根据由提取步骤(步骤S1)以较高准确度且尽量避免了随机的量子噪声的影响地提取出的不受影响像素来计算近似透视图像(步骤S2),因此与以往相比能够提高近似透视图像的精度。因而,与以往相比能够提高根据近似透视图像依次算出的栅格箔影图像(步骤S3)、箔影标准图像(步骤S4)的精度。其结果,能够在抑制随机的量子噪声的影响的同时去除箔影去除图像中的由于同步型栅格的畸变而产生的噪声。
搜索关键词: 同步 栅格 去除 方法 以及 放射线 摄影 装置
【主权项】:
一种栅格箔影去除方法,其为具备同步型栅格的用于拍摄透视图像的放射线摄影装置的栅格箔影去除方法,该同步型栅格以使栅格箔影映到检测放射线的像素的中央的方式按固定间隔配置有栅格箔,该栅格箔影去除方法包括以下步骤:提取步骤,包括分组步骤、最受影响像素选择步骤、投票步骤以及挑选步骤,其中,在上述分组步骤中,将构成透视图像的像素群中的行方向上的各行内的像素群分成以规定个数的像素构成的组,在上述最受影响像素选择步骤中,在各组内选择受上述栅格箔影的影响最大的像素来作为最受影响像素,在上述投票步骤中,以各组内的上述最受影响像素为基准,对在行方向上的前后侧与该最受影响像素分离的其它像素投规定数量的票,在上述挑选步骤中,在各组内挑选出得票数最多的像素来作为未受到上述栅格箔影的影响的不受影响像素;近似透视图像计算步骤,根据上述不受影响像素的检测信号值来进行插值处理,从而计算近似透视图像;栅格箔影图像计算步骤,根据上述透视图像与上述近似透视图像的差,来计算栅格箔影图像;箔影标准图像计算步骤,使上述栅格箔影图像在上述栅格箔影的长度方向上平均化,来计算箔影标准图像;以及箔影去除步骤,根据上述透视图像与上述箔影标准图像的差从上述透视图像中去除上述栅格箔影,来求出箔影去除图像。
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