[发明专利]放射线照相装置和放射线照相系统无效
| 申请号： | 201110402344.1 | 申请日： | 2011-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102525507A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 岩切直人;村越大 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种放射线照相装置和放射线照相系统。所述放射线照相装置包括：第一光栅；光栅图案，具有与放射线图像的图案周期实质一致的周期，所述放射线图像是由已通过所述第一光栅的放射线形成的；放射线图像检测器，检测由所述光栅图案遮蔽的放射线图像；以及第三光栅，被布置在入射至所述第一光栅的放射线的行进方向上比所述第一光栅更靠前的位置处，并选择性地屏蔽放射线所辐照的区域，从而形成分散的放射线源。隔热元件被布置在所述放射线的行进方向上比所述第三光栅更靠前的位置处。 | ||
| 搜索关键词： | 放射线 照相 装置 系统 | ||
【主权项】：
一种放射线照相装置，包括：第一光栅；光栅图案，具有与放射线图像的图案周期实质一致的周期，所述放射线图像是由已通过所述第一光栅的放射线形成的；放射线图像检测器，检测由所述光栅图案遮蔽的放射线图像；以及第三光栅，被布置在入射至所述第一光栅的放射线的行进方向上比所述第一光栅更靠前的位置处，并选择性地屏蔽放射线所辐照的区域，从而形成分散的放射线源，其中，隔热元件被布置在所述放射线的行进方向上比所述第三光栅更靠前的位置处。
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