[发明专利]含氟双二苯乙炔类液晶化合物及其制备方法

摘要

本发明属于液晶化合物合成技术领域，涉及含氟双二苯乙炔类液晶化合物及其制备方法。该化合物结构如下所示：其中n为1-4的整数，R₁为供电子基团，R₂为吸电子基团。该类化合物主要经Sonogashira偶联反应和去三甲基硅反应得到。本发明制备的一类含氟双二苯乙炔液晶化合物具有大的π-电子共轭体系，分子端基具有吸电子基团和供电子基团，且分子无对称性。本发明制备的含氟双二苯乙炔类液晶化合物具有大双折射率，且分子两端基团的特点，将在非线性光学、3D图像显示、空间光调制器及光学设备上有很大的应用前景。

主权项

1.一种含氟双二苯乙炔类液晶化合物，其特征在于，该化合物具有如下分子式：其中，式中n=1-4的整数； R₁为烷基碳数1-10的烷基苯乙炔、烷氧基苯乙炔、烷基、烷氧基、烷基苯或烷氧基苯；R₂为氟基、三氟甲基、氰基、硫腈基、氟苯、三氟甲基苯、氰基苯或硝基苯；R₃为氢或氟基；R₄为氢或氟基；。