[发明专利]定位系统、光刻设备和用于定位控制的方法有效
| 申请号： | 201110380852.4 | 申请日： | 2011-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN102566300A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·巴特勒;亨瑞克斯·赫尔曼·玛丽·考克斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种定位系统、光刻设备和用于定位控制的方法。一种用于控制光刻设备的上级部件和下级部件之间的相对位置的定位系统，其中每一部件的位置由一组直角坐标定义，所述定位系统包括：测量装置，配置成在测量坐标上确定所述部件中的一个部件的瞬时位置相对于设定点位置的误差；和控制器，配置成基于所述已确定的误差来控制所述另一部件在控制坐标中的移动；其中所述测量坐标不同于所述控制坐标。 | ||
| 搜索关键词： | 定位 系统 光刻 设备 用于 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种用于控制光刻设备的上级部件和下级部件之间的相对位置的定位系统，其中每一部件的位置由一组直角坐标定义，所述定位系统包括：测量装置，配置成在测量坐标中确定所述部件中的一个部件的瞬时位置相对于设定点位置的误差；和控制器，配置成基于所述已确定的误差来控制另一部件在控制坐标中的移动；其中所述测量坐标不同于所述控制坐标。
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