[发明专利]多弧磁控离子镀膜机

摘要

多弧磁控离子镀膜机，一种能够在真空条件下，采用阴极电弧离子放电蒸发靶材和磁控溅射靶材的双靶方式，使其在工件表面沉积成膜层的斜卧式复合离子镀膜机械装置。它是采用半斜式真空室倾斜固定在支架上，滚筒外底中心安装滚轴穿过并固定于真空室下端外连接传动马达，真空室上端左侧外挂装一扇门盖，门盖上部装置圆柱磁控靶，门盖中部装置观察窗口，门盖下部装置多弧靶和引弧针，真空室体外上方安装两路进气系统，真空室体外上方尾部安装传动马达，真空室体外右侧安装连接真空机系统构成。其特点是机体尺寸小，镀膜沉积速率高、靶材利用率高、机动性能好可同时沉积多层复合膜，具有膜层均匀致密附着力良好的优点。主要用于颗粒状的零部件滚镀功能膜和装饰膜，在国防、电子工业、科研、机械、工具和装饰等领域具有广泛的用途。

主权项

多弧磁控离子镀膜机一种多弧磁控离子镀膜机，在立式圆柱状真空室四周安装多弧源，顶部安装柱状磁控溅射源，底部安装工件转动架，其特征是：采用半斜式真空室，滚筒外底中心安装滚轴穿过并固定于真空室下端外连接传动马达，真空室上端左侧外挂装一扇门盖，门盖上部装置圆柱磁控靶，门盖下部装置多弧靶，真空室体外上方尾部安装传动马达，真空室倾斜45度底部固定在真空室固定支架上。