[发明专利]一种控制铝电解槽内氧化铝浓度稳定均匀的方法有效
| 申请号： | 201110372135.7 | 申请日： | 2011-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN102400182A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 李旺兴;张艳芳;赵庆云;邱仕麟;柴登鹏;张保伟;杨建红 | 申请（专利权）人： | 中国铝业股份有限公司 |
| 主分类号： | C25C3/20 | 分类号： | C25C3/20 |
| 代理公司： | 中国有色金属工业专利中心 11028 | 代理人： | 李子健;李迎春 |
| 地址： | 100082 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种控制铝电解槽内氧化铝浓度稳定均匀的方法，该方法是首先，将氧化铝浓度控制目标设在低阻浓度区，通过两个主要的控制过程：长期的“按需下料”和短期的“浓度校验”来实现铝电解槽在时间上按需给料和在低阻浓度区的稳定运行；第二，对电解槽每一阳极进行电流分布的在线测量，根据每一下料点周围阳极的氧化铝消耗速度，调整各下料点的下料比例，实现氧化铝浓度在空间上的均匀分布。第三，改进的下料装置和下料方式减少了因下料口堆积而产生的氧化铝沉淀。本发明有利于铝电解槽的稳定、高效、低电压、低电耗、低排放的生产运行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 控制 电解槽 氧化铝 浓度 稳定 均匀 方法 | ||
【主权项】：
一种控制铝电解槽内氧化铝浓度稳定均匀的方法，其特征在于，该方法将氧化铝浓度控制目标设在低阻浓度区，采用对铝电解槽在时间上按需给料空间上按需分配料量的控制方式对电解槽进行下料控制，同时改进下料装置和或下料方式，减少下料口堆积沉淀的产生，使电解槽氧化铝浓度长期稳定和均匀的运行在氧化铝浓度‑电阻控制曲线的低阻区。
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