[发明专利]源、掩模和投影光学装置的优化流程

摘要

本发明提供了一种源、掩模和投影光学装置的优化流程。本发明的实施例提供用于优化光刻投影设备的方法，所述方法包括优化其中的投影光学装置。当前的实施例包括几个流程，包括优化源、掩模和投影光学装置和各种连续的且迭代的优化步骤，其将投影光学装置、掩模和源任意组合。投影光学装置有时被广义地称作为“透镜”，因此优化过程可以用术语源掩模透镜优化来表示。源掩模透镜优化可能相对于已有的源掩模优化过程或其它优化过程是被期望的，该其它的优化过程不包括投影光学装置优化，部分原因在于将投影光学装置包括在优化中可能通过引入投影光学装置的多个可调节的特性导致更大的过程窗口。投影光学装置可以用于对光刻投影设备中的波前成形，使得能够对整个成像过程进行像差控制。

主权项

一种用于利用光刻投影设备改进用于将设计布局的一部分成像到衬底上的光刻过程的方法，所述光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括步骤：从所述设计布局的所述部分选取一子组图案且选取初始的照射源；同时优化所述子组图案和所述照射源；和通过利用所述优化的照射源来优化所述投影光学装置的特性。