[发明专利]一种纳米压印复合模板的制备方法

摘要

本发明属于纳米压印技术领域，具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸；其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶，将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶；利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层，收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案；最后利用反应粒子束刻蚀，在复合图案上形成键合，并表面防粘处理，得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。

主权项

一种纳米压印复合模板的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：（1）聚二甲基硅氧烷前躯体A组分和B组分以质量比10:1均匀混合后，以转速300RPM旋涂在经防粘处理过的硅片上；（2）在真空干燥箱里放入上述旋涂了聚二甲基硅氧烷的硅片，抽真空到0.5atm，保持温度65度，保温5小时后固化；（3）将固化的聚二甲基硅氧烷薄片使用直尺和刀片分割成条状；（4）使用夹具将聚二甲基硅氧烷薄片夹持，按照一定的比例拉伸薄片，并固定拉伸比；（5）在单晶硅片上旋涂200纳米的紫外光固化胶，并将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖在旋涂膜的上面，吸收10分钟，得到了吸收饱和的聚二甲基硅氧烷片；（6）分离步骤（5）的聚二甲基硅氧烷片和旋涂膜后，在另一块洁净的单晶硅片上旋涂预定厚度的紫外光固化胶，然后将吸收饱和的聚二甲基硅氧烷片覆盖其上；（7）将步骤（6）得到的样品放入氮气氛中，紫外曝光15分钟，固化紫外光固化胶，形成硬质层；（8）曝光后分离聚二甲基硅氧烷片与硅片，缓慢匀速的收缩夹具，使聚二甲基硅氧烷片恢复原状，形成有规则的图案结构；（9）对步骤（8）制备的图案结构进行表面防粘处理，得到由聚二甲基硅氧烷和紫外光固化胶形成的复合模板。