[发明专利]一种溶剂热法制备Sm2O3 薄膜的方法

摘要

一种溶剂热法制备Sm2O3薄膜的方法，将分析纯SmCl3·6H2O加入异丙醇或异丙醇与水的混合溶剂中搅拌制得溶液A；用氨水调节溶液A的pH值形成镀膜液；将镀膜液倒入水热釜中，将基片浸入镀膜液中，密封水热釜，在水热温度为120～200℃反应12～48小时后自然冷却到室温；打开水热釜，取出基片用无水乙醇冲洗干净，并真空干燥箱内干燥即在基片表面获得Sm2O3光学薄膜。本发明制备Sm2O3薄膜反应在液相中一次完成，不需要后期的晶化热处理，从而避免了Sm2O3薄膜在热处理过程中可能导致的卷曲、干裂、晶粒粗化以及薄膜与衬底或气氛反应等缺陷，且工艺设备简单，反应温度低，易获得高压，所得膜纯度较高，晶粒生长可控。可制备出均匀、致密、无可视缺陷、结合力较好，外观质量较高的薄膜。

主权项

一种溶剂热法制备Sm2O3薄膜的方法，其特征在于：步骤一：将分析纯SmCl3·6H2O加入异丙醇或异丙醇与水的混合溶剂中搅拌制得Sm3+浓度为0.03～0.1mol/L的溶液A；步骤二：将溶液A在40～55℃加热搅拌采用氨水溶液调节溶液A的pH值为5.40～6.00，继续搅拌3～5小时后形成镀膜液；步骤三：将镀膜液倒入水热釜中，填充度控制在50～60％，将清洗干净的基片浸入镀膜液中，然后密封水热釜，将其放入电热真空干燥箱中，控制水热温度为120～200℃反应12～48小时，反应结束后自然冷却到室温；步骤四：打开水热釜，取出基片用无水乙醇冲洗干净，并置于60～100℃的真空干燥箱内干燥4～12小时后即在基片表面获得Sm2O3光学薄膜。