[发明专利]一种新型纳米二氧化钛自清洁氟碳铝单板及其低温制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 201110263921.3 申请日: 2011-09-07
公开(公告)号: CN102433978A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 闫洪;艾凡荣;李勇 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: E04F13/12 分类号: E04F13/12;E01D19/00;C09D1/00;C01G23/053
代理公司: 南昌洪达专利事务所 36111 代理人: 刘凌峰
地址: 330000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 一种新型纳米二氧化钛自清洁氟碳铝单板及其低温制备方法和应用,氟碳铝单板的表面涂有一层具有自清洁功能的纳米二氧化钛薄膜或纳米二氧化钛与二氧化硅复合薄膜;薄膜在氟碳铝单板的表面分布均匀,厚度为1-3μm;纳米二氧化钛薄膜经紫外光照射后,具有超亲水性和光催化特性,可达到自清洁的效果。本发明所涉及的新型纳米二氧化钛自清洁氟碳铝单板的优点是:(1)二氧化钛薄膜厚度均匀,纳米二氧化钛晶粒分布均匀,具有超亲水性,具有良好的自清洁功能;(2)具有光催化特性,可降解表面残留的有机污染物,可进一步提高自清洁效果;(3)保留了氟碳铝单板原有高耐候、耐化学腐蚀等性能。
搜索关键词: 一种 新型 纳米 氧化 清洁 氟碳铝 单板 及其 低温 制备 方法 应用
【主权项】:
一种新型纳米二氧化钛自清洁氟碳铝单板,其特征在于:氟碳铝单板的表面涂有一层具有自清洁功能的纳米二氧化钛薄膜或纳米二氧化钛与二氧化硅复合薄膜;薄膜在氟碳铝单板的表面分布均匀,厚度为1‑3μm;纳米二氧化钛薄膜经紫外光照射后,具有超亲水性和光催化特性,可达到自清洁的效果。
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