[发明专利]曝光控制装置及方法有效
| 申请号： | 201110259948.5 | 申请日： | 2011-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN102377947A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 陈冠波 | 申请（专利权）人： | 深圳市先河系统技术有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N5/243 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518040 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种曝光控制装置及方法，所述曝光控制方法包括以下步骤：减少摄像测光过程中红外发射设备的工作电流，并获取减少工作电流后的曝光时间变化值；判断所述曝光时间变化值与工作电流减少值之间的比值是否小于第一阈值；在小于第一阈值时，关闭所述红外发射设备并继续摄像。本发明能够根据外界光线环境的实时变化准确地调整红外光，从而可以使得摄像机工作在多种光线条件下，均可获得目标物的清晰稳定图像。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 控制 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光控制方法，其特征在于，包括以下步骤：减少摄像测光过程中红外发射设备的工作电流，并获取减少工作电流后的曝光时间变化值；判断所述曝光时间变化值与工作电流减少值之间的比值是否小于第一阈值；在小于第一阈值时，关闭所述红外发射设备并继续摄像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市先河系统技术有限公司，未经深圳市先河系统技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110259948.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：可张紧式线性筛板
- 下一篇：形成半导体器件结构的方法
