[发明专利]确定光刻工艺窗口的方法无效
| 申请号： | 201110250279.5 | 申请日： | 2011-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN102436149A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 毛智彪;王剑;戴韫青 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种确定光刻工艺窗口的方法，即一种通过对柏桑（Bossung）曲线和光刻胶线条顶部和底部线宽比的综合考量来确定光刻工艺窗口的方法。其步骤如下：用扫描式电子显微镜分别量测在不同曝光区内的选定的光刻胶线条的顶部和底部的线条线宽；计算在不同曝光区内的选定的光刻胶线条顶部和底部的线宽比；并根据可接受的底部线条线宽和光刻胶线条顶部和底部的线宽比的标准确定可用于生产的曝光量和离焦量范围。本发明涉及的方法通过增加光刻胶线条顶部和底部的线宽比的条件，避免了线宽满足标准但光刻胶形貌不能满足刻蚀的情况，提高了光刻工艺窗口的准确性，保证了产品的良率和质量，非常适于实用。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 光刻 工艺 窗口 方法 | ||
【主权项】：
一种确定光刻工艺窗口的方法，即一种确定可用于生产的曝光量和离焦量范围的方法，其特征在于：其工艺步骤如下：1）选定要量测的孤立线和密集线； 2）制作量测柏桑（Bossung）曲线的硅片；3）用扫描式电子显微镜分别量测在不同曝光区内的选定的光刻胶线条的顶部和底部的线条线宽；4）用光刻胶底部的线条线宽制作柏桑（Bossung）曲线；5）计算在不同曝光区内的选定的光刻胶线条顶部和底部的线宽比；6）根据可接受的底部线条线宽和光刻胶线条顶部和底部的线宽比的标准确定可用于生产的曝光量和离焦量范围。
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