[发明专利]一种光刻工艺验证方法和系统有效
| 申请号： | 201110228471.4 | 申请日： | 2011-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN102929103A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 谢宝强;杨兆宇;赵志勇 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮;李辰 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻工艺验证方法和系统，所述方法包括：确定晶圆的关键尺寸；根据所述关键尺寸确定光刻图形中图形尺寸等于所述关键尺寸的图形并进行扫描；根据所述关键尺寸确定晶圆边缘区域处的图形并进行扫描；根据扫描结果判断扫描图形是否存在异常，若是，则确定光刻工艺不合格，若否，则确定光刻工艺合格，本发明实施例增加对晶圆边缘区域的光刻图形的验证，提高了光刻工艺验证的准确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 工艺 验证 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻工艺验证方法，其特征在于，所述方法包括：确定晶圆的关键尺寸；根据所述关键尺寸确定光刻图形中图形尺寸等于所述关键尺寸的图形并进行扫描；根据所述关键尺寸确定晶圆边缘区域处的图形并进行扫描；根据扫描结果判断扫描图形是否存在异常，若是，则确定光刻工艺不合格，若否，则确定光刻工艺合格。
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