[发明专利]密闭式二次电池的制造装置及制造方法和密闭式二次电池有效

专利信息
申请号: 201110223444.8 申请日: 2011-08-05
公开(公告)号: CN102412412A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 松井智洋;深津健太;冈本浩典 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01M10/04 分类号: H01M10/04;H01M10/34;H01M2/36
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐冰冰;黄剑锋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种密闭式二次电池的制造装置,具备:腔室,将通过注液孔被注入了电解液的电池容器配置在内部并密闭;减压单元,将该腔室的内部减压;密封体移载单元,将用来密封上述注液孔的密封体载置到处于由上述减压单元减压的上述腔室内的上述电池容器的注液孔上;以及焊接单元,通过使激光束透过形成在上述腔室的一面上的激光透过窗而照射载置在上述电池容器上的上述密封体的周缘部,将上述密封体激光焊接到上述电池容器上。
搜索关键词: 密闭式 二次 电池 制造 装置 方法
【主权项】:
一种密闭式二次电池的制造装置,其特征在于,具备:腔室,将通过注液孔被注入了电解液的电池容器配置在内部并密闭;减压单元,将该腔室的内部减压;密封体移载单元,将用来密封上述注液孔的密封体载置到处于由上述减压单元减压的上述腔室内的上述电池容器的注液孔上;以及焊接单元,通过使激光束透过形成在上述腔室的一面上的激光透过窗而照射载置在上述电池容器上的上述密封体的周缘部,将上述密封体激光焊接到上述电池容器上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110223444.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top