[发明专利]等离子体生成装置、等离子体处理装置以及处理方法无效
| 申请号： | 201110221979.1 | 申请日： | 2011-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN102421237A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 堀胜;丰田浩孝;关根诚;伊藤仁;三好秀典 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人名古屋大学;东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟;舒艳君 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种既能尽量降低微波的损失又能高效地生成高密度等离子体的等离子体生成装置(100)。具备：微波发生装置(21)，产生微波；中空状的矩形波导管(22)，与所述微波发生装置(21)连接，在微波的传送方向形成为细长状，与该传送方向正交的方向的截面形成矩形；气体供给装置(23)，与矩形波导管(22)连接并朝其内部供给处理气体；天线部(40)，是所述矩形波导管(22)的一部分，将在内部生成的等离子体朝外部放出。天线部(40)在其截面构成为短边的壁(40a)上具有1或多条隙缝孔(41)，由微波使供给至大气压状态的矩形波导管(22)内的处理气体等离子体化，进而从隙缝孔(41)朝外部的被处理体放出。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 生成 装置 处理 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体生成装置，其特征在于，具备：微波发生装置，其产生微波；中空状的波导管，其与所述微波发生装置连接，在微波的传送方向上形成为细长状，并且与该传送方向正交的方向的截面形成为矩形；气体供给装置，其与所述波导管连接并朝其内部供给处理气体；以及天线部，其是所述波导管的一部分，并将由微波生成的等离子体朝外部放出，所述天线部在其截面中成为短边的壁上具有1条或多条隙缝孔，利用微波使供给至大气压状态的所述波导管内的处理气体在所述隙缝孔进行等离子体化，进而从所述隙缝孔朝外部放出。
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